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產品介紹
產品介紹
NF-300H TEOS 設備為自主研發的產品，主要應用於沈積時間需求長的薄膜工藝，在均勻性、顆粒度、粗糙度、應力及產能等方面實現技術突破，設備性能指標達同類產品水平。
產品特點
- 高產能設計和可實現多種薄膜沈積的快速切換
- 可滿足沈積時間需求長的薄膜工藝
- 滿足300-600℃高溫沈積需求
- PM腔內可進行多片wafer沈積和wafer自動升降旋轉功能
- 通過S2安全認證
產品介紹
NF-300H TEOS 設備為自主研發的產品，主要應用於沈積時間需求長的薄膜工藝，在均勻性、顆粒度、粗糙度、應力及產能等方面實現技術突破，設備性能指標達同類產品水平。
產品特點
- 高產能設計和可實現多種薄膜沈積的快速切換
- 可滿足沈積時間需求長的薄膜工藝
- 滿足300-600℃高溫沈積需求
- PM腔內可進行多片wafer沈積和wafer自動升降旋轉功能
- 通過S2安全認證
