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產品介紹
產品介紹
PF-300T Astra 系列是我公司自主研發的原子層沈積（Atomic Layer Deposition）設備，可配置3個2站的反應腔，現已應用於先進的芯片制造及先進封裝（TSV）領域，同時針對先進制程前道工藝（FEOL）進行研制開發。現可提供具有高質量的PEALD SiO2、SiN薄膜等。
- ALD薄膜在高寬比情況下臺階覆蓋率可達到95%
- 優異的生產成本（CoO）及性能指標
- 具有優異的均勻性和優異的保型性
- 可搭載1-3個PM，每個PM可配置2個stations
- 通過S2安全認證和F47標準檢驗
