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產品介紹
產品介紹
NF-300H Astra 系列是我公司自主研發的原子層沈積（Atomic Layer Deposition）設備，可配置3個6站的反應腔，其ALD反應腔搭載在高產能的PECVD平臺上，滿足了對設備產能的需求。現可提供具有高質量的PEALD SiO2、SiN薄膜等。
- ALD薄膜在高寬比情況下臺階覆蓋率可達到95%
- 優異的生產成本（CoO）及性能指標
- 具有良好的均勻性和保型性
- 可搭載1-3個PM，每個PM可配置6個stations
- 高產能平臺
- 通過S2安全認證和F47標準檢驗
