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產品介紹
產品介紹
NF-300M Supra-H設備是我公司自主研發的應用於新壹代三維閃存（3D-NAND）生產線上的疊層薄膜沈積設備。應用於3D-NAND閃存芯片的生產。可實現SiO2、SiN多層薄膜堆疊結構，在均勻性、顆粒度、粗糙度、應力及產能等方面實現技術突破，設備性能指標達同類產品水平。
產品特點
1. 高產能設計和可實現多種薄膜沈積的快速切換。
2. 可實現多層SiO2、SiN（ONON)堆疊功能。
3. PM腔內可進行多片wafer沈積和wafer自動升降旋轉功能。
4. 通過S2安全認證。
